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正文:
于固體表面和薄膜中元素組成和分析的光譜技術(shù)
固體光譜技術(shù)
大部分光譜學(xué)技術(shù)如x射線
熒光、光學(xué)和紅外光譜的樣品制備一
般只涉及切割和安裝等極少的過程。波長色散光譜(WDS)和能量色
散光譜(EDS)等光譜技術(shù)是在掃描電子
顯微鏡和透射電子顯微鏡的
光譜分析中實現(xiàn)的,因此其樣品制備與掃描電子顯微鏡和透射電子
顯微鏡完全相同
在最近的數(shù)十年中,用于固體表面和薄膜中元素組成和化學(xué)狀
態(tài)分析的光譜技術(shù)迅猛發(fā)展。這種發(fā)展部分源于大量的有關(guān)表面或
界面的問題需要利用光譜技術(shù)來解決,如集成電路的性能、復(fù)合材
料的可靠性、腐蝕、納米結(jié)構(gòu)的成分等。光譜設(shè)備既有作為配件使
用的獨立單元,也有建立在特殊裝配場所的復(fù)雜技術(shù)體系。然而其
基本原理和對樣品制備技術(shù)的基本要求是一樣的。
分析固體表面組成和化學(xué)性質(zhì)最常用的光譜學(xué)技術(shù)是光電子能
譜法(XPS)、俄歇電子能譜法(簡稱AES),二級離子質(zhì)譜分析法(SIM
S)和離子散射能譜法(ISS)。其中前兩個是用于外表面(10~20A)定
量分析最常用的方法。所有這些技術(shù)都是用一個粒子探針(電子、
光子或離子)碰撞表面,然后分析發(fā)射的粒子能量:在XPS中,探針
是x射線光子,檢測的粒子是由其發(fā)射的光電子。在AES中,探針是
電子,檢測到的特征粒子是能量更低的電子。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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