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北京上光儀器有限公司回復(fù)：

電子顯微鏡主要是利用高加速電壓之入射電子束打擊在試片后，產(chǎn)生相關(guān)二次訊號來分析各種特性，，一般的二次訊號包括直射電子、散射電子、二次電子、背向散射電子、Auger電子及X射線等。電子顯微鏡的發(fā)展以穿透式電子顯微鏡（TEM：Transmission Electron Microscope）為最早，在1931年即已提出；掃描式電子顯微鏡（SEM：Scanning Electron Microscope）則在1935年提出。由于早期發(fā)展的SEM解析度未臻理想，影像處理及訊號處理技術(shù)無法突破，一直到1965年以后，SEM才正式普獲研究學(xué)者的青睞。此后SEM的發(fā)展相當(dāng)快速，不但機臺性能的大幅提高，且各項材料分析附件日益增多，應(yīng)用的范圍也不斷地擴(kuò)大，幾乎包含各個研究領(lǐng)域，目前應(yīng)用在材料、機械、電機、電子材料、冶金、地質(zhì)、礦物、生物醫(yī)學(xué)、化學(xué)、物理等方面最多。

掃描式電子顯微鏡由于景深（Depth of Focus）大，對于研究物體之表面結(jié)構(gòu)功效特別顯著，例如材料之?dāng)嗫�、磨損面、涂層結(jié)構(gòu)、夾雜物等之觀察研究。近年來由于技術(shù)的進(jìn)步，SEM已將電子微探儀 （Electron Probe Micro-analyser；EPMA）結(jié)合在一起（兩者主要功能之比較表請見表3-4），在觀測表面結(jié)構(gòu)時，能夠同時分析顯微區(qū)域之定性及定量成份分析，使得掃描式電子顯微鏡成為用途最廣的科學(xué)儀器之一