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標(biāo)題：刻蝕的圖形質(zhì)量表面微觀檢測(cè)圖像顯微鏡

信息分類(lèi):站內(nèi)新聞　　 作者:yiyi發(fā)布　　 時(shí)間:2018-10-1 23:18:45 將本頁(yè)加入收藏

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正文:

刻蝕的圖形質(zhì)量表面微觀檢測(cè)圖像顯微鏡

     抗蝕劑表面交鏈也能提高抗蝕性能。-例如在等離子體的作用下，也

能使抗蝕劑表面交鏈。一般來(lái)說(shuō)，經(jīng)過(guò)特殊處理的抗蝕劑不再溶予自身，

而抗蝕性大大提高。

    用正性抗蝕劑要特別注意氮?dú)獾挠绊懀�因�(yàn)檎�性抗蝕劑暴露在氮?dú)庀?/div>

會(huì)使抗蝕劑的曝光量增加至原來(lái)的8倍。這一反應(yīng)稱(chēng)為光化化合反應(yīng)(PAC)

。大多數(shù)經(jīng)過(guò)處理后的抗蝕劑會(huì)變得堅(jiān)韌，要用灰化技術(shù)來(lái)去膠，最常用

的灰化去膠技術(shù)是甩氧等離子體去膠技術(shù)

    在掩膜版翩造工藝中，后烘工藝(也稱(chēng)堅(jiān)膜)十分螢要，其主要目的是

提高抗蝕劑的抗蝕性能，改善抗蝕劑與待刻蝕材料的粘附性(防止千法和濕

法刻蝕時(shí)的鉆蝕)。在后烘工藝中，不同抗蝕荊的最佳后烘溫度不同，原因

是在高溫下各種抗蝕劑的反應(yīng)是不相同的。這種熱流動(dòng)或者物理變化會(huì)影

響濕法刻蝕的圖形質(zhì)量。一般情況下，抗蝕劑的熱流動(dòng)主要發(fā)生在抗蝕劑

豹表面，·對(duì)抗蝕劑的線寬影響不大，而且大部分用作掩膜的材料都非常

薄，刻蝕的時(shí)間短，因此圖像尺寸的變化不大。后烘的溫度不宜太高，只

要能提高抗蝕效果和不發(fā)生鉆蝕即可。

出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科

特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/11472.html 　
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