標(biāo)題：陶瓷晶體的工藝集成電路板分析圖像顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2018-12-20 23:16:39
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正文:
陶瓷晶體的工藝集成電路板分析圖像顯微鏡
陶瓷薄膜和顆粒的納米組裝和液相圖案化技術(shù)。微圖案化在光子晶體、
太陽電池以及分子傳感器中都具有廣闊的應(yīng)用前景。作者描述了陶瓷薄膜
納米圖案和微圖案的制備過程，以及采用環(huán)境友好溶液的化學(xué)方法制備膠
體晶體的工藝。研究證明可以利用毛細(xì)力、重力和靜電力實(shí)現(xiàn)隨機(jī)沉積納米
顆粒的微圖案化。實(shí)際上，已經(jīng)開發(fā)了許多種圖案化技術(shù)用于制備薄膜圖
案，如光刻、微接觸印刷、濕法刻蝕和噴墨打印技術(shù)。然而，許多此類方
法需要刻蝕或“鏤空”，這將削弱結(jié)構(gòu)性能并增加浪費(fèi)和能耗。因此，為
了實(shí)現(xiàn)陶瓷薄膜的圖案化，需要將薄膜只沉積在基體的期望位置，可以使
用溶液合成方法輕易地完成該過程。
在21世紀(jì)的首個(gè)十年內(nèi)，納米材料的可控操作發(fā)展到了可以制備和表
征概念證明型納米器件的程度。納米線和納米管等1 D納米結(jié)構(gòu)被用來制造
如互聯(lián)、氣體傳感器、生物傳感器、光電探測(cè)器、鋰離子電池、TE發(fā)電機(jī)
等原型組件的基本單元。下一個(gè)核心難題是向上擴(kuò)展到生產(chǎn)集成了功能性
納米結(jié)構(gòu)的大尺度組件Mathur和合作者論述了1 D納米結(jié)構(gòu)可
控生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)．性能關(guān)系、納米線基FET制備和納米線高級(jí)別集成到復(fù)雜納
米設(shè)備架構(gòu)的研究進(jìn)展。作者給出了納米材料用于元器件制備的概念性和
實(shí)際應(yīng)用進(jìn)展。作者討論了大規(guī)模生產(chǎn)的主要技術(shù)難度，包括實(shí)現(xiàn)較好的
納米線電接觸．發(fā)展和定位低成本納米線電子元件，滿足精度和可靠性的
工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。作者也給出了解決難題的建議，并指出集成納米材料到通用設(shè)
備時(shí)可靠性問題的重要性和在此方面系統(tǒng)研究的必要性。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/11600.html
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