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正文:
細(xì)晶材料氧化膜的應(yīng)力表面分析圖像
顯微鏡廠家
氧化膜與基體接觸良好,表現(xiàn)出良好的粘附性。氧化膜粘附力的提高
是由晶粒細(xì)化造成的。
(1)細(xì)晶材料能夠抑制孔洞的形成。由于基體晶粒細(xì)小,高密度的晶界
促進(jìn)了Al的外擴(kuò)散,同時(shí)也為氧化物的形成提供了數(shù)量眾多的形核點(diǎn),因
而,晶粒細(xì)化的基體上能夠迅速形成一層保護(hù)性的氧化膜。氧化膜形成后
,基體
金屬的擴(kuò)散受到極大的抑制,減少金屬的消耗,氧化膜/基體界面
上不會(huì)形成Al的耗盡層,從而大大減少了空位的形成。
(2)細(xì)晶材料氧化膜的應(yīng)力也較小。氧化過程中,氧化物是在晶界處形
核并長大的。氧化物晶粒的側(cè)向生長受到周圍一起長大的氧化物晶粒的制
約,因此,細(xì)晶材料所形成的氧化膜的晶粒也會(huì)非常細(xì)小。晶界的熱膨脹
系數(shù)比晶粒內(nèi)部大得多(2.5—5倍)。由此可以推知,細(xì)晶材料氧化膜的
熱膨脹系數(shù)也較高。所以,亞微米晶NiAl氧化膜中的熱應(yīng)力會(huì)比較低。同
時(shí),由于晶界處生成的氧化物晶粒比較細(xì)小,其所產(chǎn)生的生長應(yīng)力也就比
較小。熱應(yīng)力和生長應(yīng)力的共同減小降低了氧化膜中的應(yīng)力,從而有利于
其粘附力的提高。
由于受各種因素的影響,實(shí)驗(yàn)中性能表現(xiàn)良好的材料,在實(shí)際應(yīng)用中
卻未必能發(fā)揮出優(yōu)良的性能。前面實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,亞微米晶NiAl材料具有
良好的高溫抗氧化性能。為測(cè)試其在實(shí)際應(yīng)用中的表現(xiàn),對(duì)制備的前緣模
擬件進(jìn)行了氧化性能測(cè)試。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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