標(biāo)題：光學(xué)量測方式的優(yōu)點-金相顯微鏡光學(xué)量測儀器專業(yè)廠家
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2012-11-24 16:15:18
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正文:
用光源的方式來量測半導(dǎo)體薄膜厚度，
半導(dǎo)體工業(yè)對薄膜品質(zhì)要求越來越高，因此需要鍍制高品質(zhì)與厚度精確的薄膜；薄膜厚度的量測方式有很多種，
而光學(xué)量測是一種非破壞性的量測方式，最常用于量測鍍膜的品質(zhì)與厚度，
因此想要設(shè)計一套簡易又便宜的光學(xué)量測儀器，量測樣品的反射率來推測薄膜厚度以及折射率，
目前設(shè)計出來的量測儀器，可以用來量測到波長 400nm~800nm 的反射強度的光譜，所以觀察范圍為 400nm~800nm，
超過此范圍的收光強度實在是太微弱無法量測，再不同時間量測的光譜，所造成的比值介于 1~1.2，
然而 10 分鐘內(nèi)把樣品量測得到的光譜比值為 0.975，所以為了避免光源強度改變所造成誤差值大小的問題，
所以須在 10 分鐘內(nèi)把所有樣品量測完成，這樣才能縮小其誤差值。為了找出量測的反射率誤差值，記錄三十組數(shù)據(jù)進行分析。
看每次量得之反射率與其平均值的差，觀察到整個系統(tǒng)的反射率偏移量大約在 2%左右
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應(yīng)商
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