標(biāo)題：金相實(shí)驗(yàn)主要有哪些步驟-光學(xué)顯微鏡（OM）觀察
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2013-2-24 23:22:05
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正文:
（1）取樣
利用加工機(jī)或高速切割機(jī)將要觀察基地組織之試片部位切下。
（2）鑲埋
將較小塊或不易研磨之試片，利用鑲埋之方法，使研磨時(shí)較容
易。
（3）研磨
將試片以 150、400、800、1200、1500 mesh 之砂紙依序作研
磨制程，并需用水把磨屑帶走，以免試片刮傷，且當(dāng)每換其他
號(hào)數(shù)砂紙時(shí)，試片要旋轉(zhuǎn) 90℃且以同一研磨方向進(jìn)行研磨。
（4）拋光
經(jīng)過(guò) 1500 mesh 之砂紙研磨后，隨即進(jìn)行拋光制程，拋光期間
需添加三氧化二鋁（Al2O3）調(diào)制的拋光液（三氧化二鋁粉末之
粒徑為 0.3μm、0.05μm），主要作用是要把殘留的細(xì)研磨痕去
除 。
（5）腐蝕
將拋光完成之試片，浸入腐蝕液（5%濃度之 Nital 液）中，經(jīng)
過(guò)適當(dāng)時(shí)間（腐蝕優(yōu)異）后拿起，并用清水沖洗后吹乾。
（6）光學(xué)顯微鏡（OM）觀察
將腐蝕完之試片放置于顯微鏡下，并選取適當(dāng)之倍率及調(diào)整工
作距離（焦距），以便清楚觀察金相顯微組織
高解晰可變真空掃描式電子顯微鏡及能量散佈光譜儀
（VVSEM）
由于光學(xué)顯微鏡的景深太淺，所以在高倍率下所觀察到的組織
并不清晰，所以本研究使用逢甲大學(xué)貴儀中心的掃描式電子顯微鏡來(lái)
輔助觀察耐熱震試驗(yàn)淬火后之基地組織，并使用能量散佈光譜儀
（Energy dispersive spectroscopy,EDS）來(lái)進(jìn)行基地組織的元素成
份分析及元素分佈分析（Mapping）。
多功能薄膜 X 光繞射儀（HRXRD）
使用多功能薄膜 X 光繞射儀對(duì)試片中基地組織的相與析出物
做分析。角度測(cè)量范圍 2θ：+40°~ +90°，分析所得之結(jié)果再與 JCPDS
資料庫(kù)做比對(duì)
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/3984.html
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應(yīng)商
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