標(biāo)題：什么是晶圓？晶圓封裝檢測(cè)工具顯微鏡
信息分類(lèi):站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2013-8-28 23:38:19
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正文:
什么是晶圓？晶圓封裝檢測(cè)工具顯微鏡
半導(dǎo)體制程人員（Semiconductor processors）就是自不同尺寸的磁盤(pán)上制造半導(dǎo)體的生產(chǎn)勞工。
磁盤(pán)的直徑通常是8吋到12吋，而這些被稱(chēng)為晶圓
（wafers）的磁盤(pán)是薄薄的硅片，其上鋪設(shè)著一層一
層的芯片電路。每一片晶圓到最后會(huì)被切割成12顆或者是20顆的單獨(dú)芯片（chips）。
半導(dǎo)體制程人員（Semiconductor processors）使用照相平板印刷法（photo lithography）來(lái)制造晶圓，
這個(gè)方法就是從攝影的影相來(lái)產(chǎn)生圖樣的一種印刷過(guò)程。
操作自動(dòng)化的設(shè)備，以把顯微的電路圖樣精確地印刷在晶圓上；利用酸類(lèi)蝕刻出電路圖樣，
接著用導(dǎo)電的金屬取代蝕刻出的電路，然后，將這些晶
圓用化學(xué)藥品洗滌一次以變得光滑，接著從新開(kāi)始另一個(gè)印刷程序?qū)⑾乱粋�(gè)電路圖樣印刷在新的一層上
面。晶圓一般會(huì)如前述的顯微層── 立體電路
突破解像力的限制，成為當(dāng)時(shí)極欲克服的問(wèn)題。 1943年，穆勒發(fā)現(xiàn)了“場(chǎng)離附”（field desorption）的現(xiàn)象，
即表面若存在相當(dāng)高的正電場(chǎng)時(shí)，則表面電場(chǎng)力克服了表面附著原子（surface adsorbed atom）的束縛力，
附著原子即可脫離表面而以離子形式曳出。此現(xiàn)象立即指引出一條最佳途徑，
即采用離子取代電子作為場(chǎng)顯微術(shù)之投射粒子。因離子質(zhì)量遠(yuǎn)大于電子質(zhì)量，故曳出離子的切線速度分量將很小，
又此微小速度分量主要來(lái)自熱能的效應(yīng)，若再降低表面溫度，即可大大地減少此種速度分量，
而滿足提高解像力之必要條件
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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北京地區(qū)金相顯微鏡專(zhuān)業(yè)的供應(yīng)商
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