標(biāo)題：襯底材料的性質(zhì)及其表面粗糙度測(cè)量輪廓儀-工具顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2014-10-7 17:25:19
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正文:
薄膜性質(zhì)可具有更多的再現(xiàn)性，并且其相和組織狀態(tài)可通過
退火方法即利用回復(fù)和再結(jié)晶過程加以控制.用這種方法可使非
晶形的薄膜轉(zhuǎn)變?yōu)槎嗑w或單晶體薄膜。在某些情況下，再結(jié)晶
退火可改變單晶薄膜的取向或使其變成具有特定織構(gòu)的多晶薄
膜。
分析和控制薄膜中多晶的及結(jié)構(gòu)的變化問題比大試樣復(fù)雜得
多。這與某些能影響薄膜再結(jié)晶進(jìn)行的附加因素有關(guān)。
其中最重要的一些是襯底材料的性質(zhì)及其表面伏態(tài);沉積物
質(zhì)的表面能和有向性;襯底與薄膜之間結(jié)構(gòu)類型的一致性和熱膨
脹系數(shù)的差別;薄膜沉積的條件(襯底的溫度、薄膜沉積的速
率、典空度等等)。對(duì)化合物薄膜，最重要的也是化合物各組份
的揮發(fā)性，其揮發(fā)性和凝聚點(diǎn)的差別以及薄膜成份與化學(xué)計(jì)算比
的偏差。
由于這些附加因索，沉積在襯底的薄膜在退火前可以是各種
狀態(tài)—從非晶態(tài)到單晶—并且與大試樣不同的是有相當(dāng)高的
點(diǎn)缺陷(結(jié)構(gòu)的和化學(xué)的)濃度和高的微觀應(yīng)力。
退火條件即加熱溫度與加熱速度;恒溫保持的中間階段:加
熱介質(zhì)等等，對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)的影響比對(duì)大試樣更明顯。依靠熱蝕坑
而穩(wěn)定組織在再結(jié)晶薄膜中是普通的現(xiàn)象。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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