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正文:
滲硅層表面腐蝕前具有粒伏結(jié)構。晶粒的形狀和尺寸和滲硅規(guī)范
有關。
在1100-1200 ℃時形成等軸多角形粗晶硅化物組織。在溫度較低
時,晶粒細小,其中許多晶粒具有三邊形或四邊形。晶粒之間有相互
聯(lián)接的空隙。表面有浮雕式搜蓋層。在高溫下,硅化物品體成長投有
方向性,表而的浮雕消失?障兜臄(shù)量和長度大大減小,空隙具有圓
形封閉式氣孔的形狀。
由于方法上的困準,沒有研究過滲層橫截面的組織特征。
滲硅層晶粒尺寸和工藝條件的關系。在開始階段,無淪是用爐子
加熱還是用電加熱,滲硅溫度愈高,晶粒尺寸增長愈快,而且增長的
速度不是始終固定的。在1000℃時,晶粒的增長隨時間變慢,甚至出
現(xiàn)了晶粒平均尺寸下降的情況,看來,這是由于在表面層形成了新的
細小品粒的緣故。在
900 ℃時,45鋼和T8鍋在晶粒增長變慢之前出現(xiàn)了晶?焖僭鲩L
時期。晶粒增長變慢,按時間說,正好和滲層本身增長受到阻礙相吻
合,由Fe+SiC4.反應引起的晶?焖僭鲩L二在滲層燒結(jié)期間,由于擴
散變慢而發(fā)生變化。
如果氣孔是長形的并沿邊界分布(這樣的氣孔曾在900 ℃滲層中
看到過),氣孔對晶粒合并增長過程中邊界的位移,可能產(chǎn)生特別強
烈的阻礙作用。在氣孔數(shù)景和尺寸同時顯著減少的工藝階段,其形狀
接近于等軸的品粒,晶?赡芴S式增長。 45 鋼滲層的晶粒和氣孔
尺才方面的數(shù)據(jù)有利于證明氣孔的阻礙作用。當滲層晶粒的尺寸不超
過氣孔的尺寸時,滲層晶粒的增長變慢。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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