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正文:
鍍層對(duì)于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體
光學(xué)復(fù)合材料在工程上的最重要的用途無(wú)疑是用作太陽(yáng)能集
熱管的選擇吸收鍍層.太陽(yáng)能的大部分能量是在0.1-2μm光譜
范圍內(nèi)。選擇吸收鍍層對(duì)于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體,
而對(duì)于波長(zhǎng)大于3μm是理想的反射體。黑鉻和黑鎳接近于滿(mǎn)足這
一要求。但黑鎳的抗蝕性差,而黑鉻的抗蝕性良好,因而后者廣泛
用作選擇吸收鍍層。
盡管電解染黑的鋁曾經(jīng)研究過(guò),擬用作太陽(yáng)能選擇吸收鍍層,
但由于其具有高發(fā)射率而未能獲得實(shí)際應(yīng)用。電解染色鍍層已經(jīng)
廣泛用于彩色裝飾。
黑鎳和黑鉻已經(jīng)用在光學(xué)儀器零件上和某些印刷機(jī)械部件上
鋁的光學(xué)復(fù)合鍍層是用另一種稱(chēng)為鋁電解染色的工藝制備。
這種工藝是在硫酸中陽(yáng)極氧化,然后在磷酸中陽(yáng)極氧化,最后在硫
酸鎳或硫酸亞錫或任何其他適當(dāng)
金屬鹽溶液中,以陽(yáng)極氧化的鋁
作為電極之一進(jìn)行直流電解。根據(jù)電壓、磷酸陽(yáng)極氧化的持續(xù)時(shí)間
和直流電解時(shí)間,鋁可染上色澤。文獻(xiàn)中報(bào)道的各種工藝基本上都
是運(yùn)用上述工序,其差別在于所使用的電解液濃度和操作條件。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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