標(biāo)題：金屬材料平均晶粒尺寸計(jì)量分析圖像顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-5-4 14:05:15
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正文:
金屬材料經(jīng)過再結(jié)晶或一段時(shí)間的正常晶粒長(zhǎng)大以后，假如
組織中存在一些尺寸明顯大于或面數(shù)明顯多于其鄰晶的晶粒，則
這些晶粒的晶界將內(nèi)凹以使界面張力在晶界相交處達(dá)到局部平衡。
由于這種界面張力的局部平衡和降低界面面積的需要，晶界將在
不斷的“平直彎曲”運(yùn)動(dòng)中向其曲率中心方向移動(dòng)。晶粒越大或
晶粒面數(shù)越多則晶界的內(nèi)凹曲率越大，作用在晶界上的驅(qū)動(dòng)力根
據(jù)拉普拉斯方程也將越大，于是
大晶粒的晶界向外遷移的速度，即晶粒長(zhǎng)大的速度將明顯地大于
其他晶粒.從而相對(duì)于其他晶粒，大晶粒的長(zhǎng)大速度將越來(lái)越大，
所以異常晶粒長(zhǎng)大一旦發(fā)生將自動(dòng)持續(xù)下去，直到其余較小的晶
粒全部消失。
這兩種過程的基本區(qū)別在于系統(tǒng)中長(zhǎng)大晶粒的區(qū)域分布不同。
在正常晶粒長(zhǎng)大過程中，晶粒長(zhǎng)大的臨界晶粒尺寸一般相當(dāng)于
或略大于系統(tǒng)的平均晶粒尺寸。
由于所有大于臨界晶粒尺寸的晶粒都能長(zhǎng)大，長(zhǎng)大的晶粒很多并
且相對(duì)均勻地分布于整個(gè)試樣中，所以在正常晶粒長(zhǎng)大過程中的
任意時(shí)刻，幾乎所有晶粒都受到品界平直彎曲運(yùn)動(dòng)的影響而或者
長(zhǎng)大或者縮小，處于不斷的晶粒尺寸變化狀態(tài)之巾.從微觀組織上
看，晶粒之問尺寸相差不大，而且除了平均晶粒尺寸逐漸地連續(xù)
地上升以外，并無(wú)其他組織變化。反之在異常晶粒長(zhǎng)大過程中，
平直彎曲運(yùn)動(dòng)只發(fā)生在極少數(shù)具有異常大尺寸的晶粒的晶界上，除
了這些個(gè)別的“超級(jí)大晶粒”以外.其余大量不與它們接壤的晶
�；旧戏�(wěn)定地保持原有尺寸。這些被稱為基體的晶粒幾乎既不
長(zhǎng)大也不縮小，直到那些長(zhǎng)大的二次晶粒逐漸擴(kuò)張到它們周圍而
被吞噬，或者晶粒長(zhǎng)大的條件發(fā)生變化，如溫度改變或者阻礙它
們長(zhǎng)大的第二相粒子溶解或粗化，而使其晶界得以運(yùn)動(dòng)。
所以很明顯，異常晶粒長(zhǎng)大過程持續(xù)進(jìn)行的微觀組織條件就
是:遠(yuǎn)離擴(kuò)張晶粒的基體晶粒保持基本穩(wěn)定的尺寸。因此，異常晶
粒長(zhǎng)大研究的關(guān)鍵理論間題在于探討晶粒組織中哪些晶粒有可能
成為二次晶粒以及基體晶粒得以保持穩(wěn)定尺寸的原因所在。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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