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正文:
測量有機質(zhì)發(fā)射
熒光在可見光范圍內(nèi)400-700nm
熒光光譜測量
測量方法
測量有機質(zhì)發(fā)射熒光在可見光范圍內(nèi)(400-700nm)光譜
相對強度分布的方法,稱為熒光光譜測量,由于光譜測量
能揭示有機質(zhì)熒光在整個可見光范圍內(nèi)的分布和變化特征
,具有靈敏度高和分析參數(shù)多的優(yōu)點,并可直接地反映物
質(zhì)的內(nèi)部組成和結(jié)構(gòu),因此,在有機質(zhì)熒光性研究中,光
譜測量是最常使用的方法。
光譜測量方法是在工作基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,熒光光譜測
量的影響因素較多,到目前為止尚末能像熒光強度那樣制
定一套相對規(guī)范的國際標準。
對熒光光譜的測量方法做了準確詳細地描述,之后,各
國煤巖學(xué)家大都沿用了這一套方法,隨著研究的深入,人
們對測量方法做了部分修改和調(diào)整,但其基本要點是一致
的。
1.用反射光熒光顯微技術(shù),激發(fā)光源為100W高壓汞燈。
2.用長波紫外光(大約365nm)作為激發(fā)光,即使用UGL
+BG38激發(fā)濾光片組合。
3.垂直照明系統(tǒng)使用雙光束分光器(臨界值為420-
430nm).
4.阻擋濾光片透光下限為430nm。
到目前為止,國內(nèi)外發(fā)表的文章中的光譜數(shù)據(jù),都是在
上述條件下測得的。這一方法優(yōu)點在于:
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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