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正文:
在金屬液霧化后,下落到水冷基板上瞬時間,已經(jīng)是固態(tài)粒
子、部分凝固的液滴和一些純液滴的混合群體。它們在基板上凝
聚,最終形成一定厚度(如0.05~0.10m)的沉積層。液滴由于
其直徑小和冷卻氣流速度高,實際在下落的行程中就已冷淬,大
一些的可能在撞到基板的沉積層以后才能完全凝固。
金屬液霧化后在水冷基板上沉積是一個復(fù)雜的過程。通常,水
冷基板是移動式的,這樣可以增加沉積面積,也可以改善基板各
部位沉積速度的均勻性。還有,霧化金屬到達(dá)基板時的平均溫度
和金屬流量也都隨時間而變化,所以為了模擬整個沉積過程,必
須作一些簡化過程但又不失過程本質(zhì)的假設(shè):
1)沉積過程中的傳熱主要發(fā)生在沉積層厚度的方向上,其他兩
個方向上的傳熱忽略不計;
2)沉積速度與空間位置及時間無關(guān);
3)沉積生長層的上界面的界面?zhèn)鳠釛l件是取金屬滴粒下落到基
板瞬間的平均溫度
上述假設(shè)是否合理,下面的解釋可能是有道理的:
1)沉積層肯定都是有邊緣的,平行于基板的方向上,存在溫
度梯度也是不可避免的。然而是否可以認(rèn)為在離沉積層邊緣不太
近的位置上,這時溫度梯度很小,可以忽略。如果不作這樣的近
似,計算量是要大為增加的。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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