標(biāo)題：氣體質(zhì)譜儀用于金屬封裝晶體管內(nèi)氣體環(huán)境的分析
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-6-22 1:44:07
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正文:
氣體質(zhì)譜儀用于金屬封裝晶體管內(nèi)氣體環(huán)境的分析
定性分析 紅外分光光度測(cè)量主要用來識(shí)別未知化合物，實(shí)
驗(yàn)光譜要與純化合物的光譜進(jìn)行比較，有很多光譜已經(jīng)發(fā)表了J
往往只要觀察實(shí)驗(yàn)光譜就可直接進(jìn)行識(shí)別。
質(zhì)譜儀是定性和定量分析的有用工具。同紅外光譜大致相同
，碎片圖表示分子的“指紋印”，并幫助識(shí)別和收集各種結(jié)構(gòu)和
鍵能的資料。試樣必須是氣體，或者是能揮發(fā)的物質(zhì)。通常，多
元混合物易于分析。
應(yīng)用實(shí)例 氣體質(zhì)譜儀首先用于金屬封裝晶體管內(nèi)氣體環(huán)境
特性的分析。金屬封裝容量小，只有少量氣體能作分析。以器件
為試樣，放在有針孔眼的真空夾具內(nèi)，在真空下打開器件，然后
將來自密封裝置的氣體向試樣室擴(kuò)大。 在不同期間，器件障礙
與過多的氫、碳?xì)浠衔镆约八魵舛加嘘P(guān)系，有時(shí)出現(xiàn)不明顯
的雜質(zhì)，例如有機(jī)殘?jiān)驔]有完全清洗的電鍍零件。如果氣體本
身污染了，或者是晶體管內(nèi)其它污源間接引起了污染，則必須連
同其它已知數(shù)據(jù)檢測(cè)氣體的污染。
火花源質(zhì)譜儀
火花源質(zhì)譜儀用于痕量雜質(zhì)的固體分析，也用于部分試樣內(nèi)
部及其表面的分析、通�？勺鳛楹哿侩s質(zhì)的一般測(cè)量工具。
原理 將試樣放在試樣室，試樣是由兩塊用作分析的材料組
成，兩塊材料之間留有縫隙。在整個(gè)儀器中需要真空。高壓電火
花通過縫隙放電，腐蝕試樣，使之產(chǎn)生離子。離子通過縫隙進(jìn)行
加速，并進(jìn)入電區(qū)。 具有一定能量的離子經(jīng)過縫隙離開，U區(qū)
，而能址太多或太少的離子則撞擊室壁而消耗掉了。 離予以一
定的質(zhì)，荷比經(jīng)過電區(qū)進(jìn)入磁場(chǎng)，而磁場(chǎng)必須適應(yīng)半徑增大的圓
形
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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