標(biāo)題：微觀結(jié)構(gòu)物質(zhì),零件組裝之前和系統(tǒng)裝配微觀結(jié)構(gòu)
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-11-29 1:57:53
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正文:
微觀結(jié)構(gòu)物質(zhì),零件組裝之前和系統(tǒng)裝配微觀結(jié)構(gòu)
在直接或者間接接觸有害工藝之前，應(yīng)對(duì)此充分了解，以便減
少危害。
零件組裝之前和系統(tǒng)裝配完畢之后都應(yīng)該進(jìn)行清洗，清除污染
，不允許其大量留在死角或在裂紋，連接或?qū)嶓w材料中生成，換
言之，清洗的目的是為了改進(jìn)所有器壁和其他組件表面在各工作
條件下工作穩(wěn)定性，這些條件包括：高溫、低溫、以及電子、光
子或重粒子的轟擊。通常，清洗目的并不在于獲得原子級(jí)清潔表
面，而是為了保證所有的表面盡可能沒有微觀結(jié)構(gòu)物質(zhì)，并且使
表面的各種分子約束得更緊密，在基體相上沒有明顯的化學(xué)物質(zhì)
，在特殊情況下，在嚴(yán)格控制的周圍環(huán)境條件下進(jìn)行清洗，通過
較長的時(shí)間過程，采用如蒸發(fā)、閃燃燈絲、濺射和切削等技術(shù)就
能在特定的表面區(qū)域獲得原子級(jí)清潔表面。
有許多有效的表面處理技術(shù)可以在抽氣之后提供很低的放氣率
，低到要在室溫下進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量得化很長時(shí)間，影響放氣測(cè)量的
因素很多，其中，如測(cè)量系統(tǒng)、規(guī)、分子分析器、暴露空氣的溫
度、時(shí)間長度和形式，通常，只在給定的單個(gè)試件中測(cè)量放氣率
，并且由一個(gè)實(shí)驗(yàn)者在真空下進(jìn)行有限時(shí)間的觀察，當(dāng)觀察到負(fù)
的凈放氣率進(jìn)，就表明：試件、測(cè)量系統(tǒng)
、規(guī)管等或者其組合在測(cè)試條件下，成為放出氣體的吸收體，這
里介紹的有關(guān)清洗方法，基本體需要來選擇清洗方法，例如，不
銹鋼上連接致密的氧化層是所希望的，因?yàn)樗种茪錃�，可能還
有一氧化碳的放氣率。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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