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正文:
電、光、磁學(xué)
金屬制造結(jié)構(gòu)顯微分析圖
顯微鏡廠商
即使高純材料也含有缺陷
實(shí)際材料,甚至用于研究工作的看來很完善的高純晶體, 其原
子結(jié)構(gòu)往往與理想摸型也有差距,人們把這些偏離理想完善結(jié)構(gòu)現(xiàn)
象通稱為實(shí)際材料的真實(shí)結(jié)構(gòu)或具有缺陷的材料。材料的所有力學(xué)
、電、光、磁學(xué)和其它性能大多深受缺陷結(jié)構(gòu)的影響,甚至取決于
其缺陷結(jié)構(gòu)。
可根據(jù)與理想晶體結(jié)構(gòu)偏差的程度,區(qū)分不同類型的實(shí)際結(jié)構(gòu)
或缺陷結(jié)構(gòu),當(dāng)個別點(diǎn)體上的原子未處在規(guī)定的位置上或?yàn)殡s質(zhì)原
子所取代時,即出現(xiàn)點(diǎn)缺陷,也稱為零維缺陷。點(diǎn)陣空位或中間點(diǎn)
陣位置上的質(zhì)點(diǎn)屬于這種最簡單的點(diǎn)陣缺陷類型。著名學(xué)者弗倫克
耳和肖特基指出,與理想晶體點(diǎn)陣的這些偏差不足為奇,它們是由
干點(diǎn)陣上原子的不規(guī)則的熱運(yùn)動的結(jié)果。在較高溫度下,總有一些
原子獲得足夠的動能,使之離開在點(diǎn)陣中的正常位置,同時留下的
空位,即空著的位置。
質(zhì)點(diǎn)或是在表面上重新回到正常位置上,或是進(jìn)人正常點(diǎn)陣位
置之間。后一種情況是可能出現(xiàn)的,因?yàn)樵诿恳稽c(diǎn)陣中由于相鄰質(zhì)
點(diǎn)的輕微變形均可能產(chǎn)生足夠的空間,以便將不太大的原子或離子
安置在點(diǎn)陣位置之間,即使在低溫下,這些點(diǎn)缺陷也不會消失,因
為在低溫下質(zhì)點(diǎn)的運(yùn)動大大受阻,使其不能回到正常位置。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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