標題：樹脂材料樣品的納米印光刻電子束光刻技術的應用
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2016-9-1 14:30:17
將本頁加入收藏
下一篇：量規(guī)淬火鋼、陶瓷(玻璃)等以高精度公差制成物體
上一篇：轉移、壓縮和注射成型，LED封裝中的模塑工藝
點擊查看產(chǎn)品參數(shù)和報價--丨--
---
---
---
正文:
樹脂材料樣品的納米印光刻電子束光刻技術的應用
壓模是近年來可以延伸到毫米尺寸的老方法之一。熱壓�？梢杂脕�
生產(chǎn)毫米甚至納米特征和結構。大約10pm寬和深的結構模型能夠被壓模
成PMMA。目前，一種更改過的晶片結合系統(tǒng)被用于壓模結構，相當于40
0nm穿過一個1℃m直徑的晶片。
有一種壓模，叫做納米印光刻(NIL)，包括把一個模子壓在涂有光
刻膠的襯底表面。這里，模型通過機械反應而不是化學反應被轉換成保
護層，即普通的PMMA。接著是光刻膠打開一個小小的區(qū)域到襯底，并允
許在襯底表面淀積或者蝕刻——光刻膠的傳統(tǒng)用法。NIL的模型可以由
許多普通的平版處理過程準備好。例如，電子束光刻已經(jīng)被用來在40 n
m的樹脂上制作10 nm直徑的柱子，然后在PMMA中壓印。
一種稱為分步快速鏤刻技術，是使用光化學工藝，把晶片表面的一
層液體固化。這種技術避免了高溫和較高的壓力。晶片首先被涂上固體
有機材料的轉換層，然后將玻璃模板和期望的圖案置于有涂層的晶片附
近。模板可以利用好多方法來加工。一種低粘性的液體(光聚合，有機
硅，蝕刻保護材料)被分散在晶片的模板和轉換層之間，然后這些層被
粘在一起。通過紫外線曝光之后固化蝕刻保護層，并使它與轉換層聯(lián)系
在一起，然后去除模板。等離子蝕刻把圖形從現(xiàn)在的固體蝕刻保護層更
換到了轉換層，然后去掉蝕刻保護層。這就可以進一步處理晶片表面的
轉換層模型�？焖夔U刻技術已經(jīng)生產(chǎn)出了60nm部件。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請勿轉載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/8831.html
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應商
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應商