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場發(fā)射掃描式電子顯微鏡（FE-SEM）

  本研究利用FE-SEM觀察不同操作條件下的極板表面形貌結(jié)構(gòu)。首先于不同分散劑濃度中，尋找最佳分散劑濃度；本研究于極板製備完成后，經(jīng)由超音波震盪去除黏覆性不佳的部分，再藉由FE-SEM檢視不同操作參數(shù)之下的極板表面形貌，其放大倍率皆為100,000倍。其中，圖2和圖3為披覆一次但添加不同分散劑劑量的表面形貌圖，其添加量分別為分散劑重量0.002 g 與0.02 g，由圖中觀察得知，在相同的批覆次數(shù)下，在分散劑添加克數(shù)重量為0.002 g時，其奈米顆粒尺寸在30 nm左右，表面顆粒排列情況無堆迭現(xiàn)象產(chǎn)生，其粒子狀況如下圖。

即使添加不同分散劑量的條件下，極板表面奈米粒子尺寸均可維持一致性，其粒徑約為30 nm且無粒子堆積現(xiàn)象產(chǎn)生，因此本研究選用分散劑添加量為0.002 g作為往后最佳操作參數(shù)。

第二部分針對不同載體材料，并結(jié)合最佳分散劑添加量與披覆一次的條件下進(jìn)行觀察，圖4-6分別為氧化銦錫玻璃（Indium-Tin Oxide, ITO）、二氧化硅與鈦板做為批覆基材；由圖4與圖5皆為批覆一次的情況下，可發(fā)現(xiàn)極板表面但以顆粒粒徑約為30 nm，且如圖6所示無粒子堆迭情況產(chǎn)生；但以為鈦板做為批覆基材時，此圖中央部分為本製備方式批覆完成之后而得，經(jīng)由超音波震盪發(fā)現(xiàn)表面粒子無法黏覆于極板上；而相較于鈦板，使用ITO與二氧化硅在批覆次數(shù)為一次的情況下，可明顯改善表面粒子無團(tuán)聚現(xiàn)象發(fā)生且粒子呈現(xiàn)均勻性，因此本研究將選用ITO與二氧化硅兩種基材做為載體。極板表面顆粒具有一定的均勻性，并可避免顆粒團(tuán)聚情形產(chǎn)生。第三部分為披覆次數(shù)影響試驗(yàn)，圖7~9所有皆是以ITO為披覆基材，分別針對不同批覆次數(shù)(1、3、5次)下的極板表面形貌圖。由圖中觀察得知，披覆次數(shù)對于極板奈米粒徑無顯著影響，極板表面顆粒可維持一致性且無產(chǎn)生堆迭現(xiàn)象，且顆粒粒徑皆約為30 nm。而圖10~12以二氧化硅為載體進(jìn)行批覆試驗(yàn)時，由圖中得知，極板表面粒子隨著批覆次數(shù)的增加，顆粒粒徑亦會相對的提升，且從圖11中觀察得知，在批覆次數(shù)三次時，粒子已有些許堆迭情形發(fā)生，由圖12觀察得知，若將增加批覆次數(shù)增加至五次時，可明顯觀察出，，極板表面奈米粒子與圖10相比，發(fā)現(xiàn)表面奈米粒子已經(jīng)開始產(chǎn)生團(tuán)聚現(xiàn)象，且堆迭的情形依然存在，二氧化硅做為極板基材時，奈米顆粒。經(jīng)由上述試驗(yàn)結(jié)果得知，不同極板載體材料，必須結(jié)合適當(dāng)?shù)呐�覆次�?shù)，將有助于改善二氧化鈦批覆的均勻性，避免批覆次數(shù)影響而造成使表面粒子過度堆積或粒徑的不均勻性，造成粒子大小與分佈情況變化逐漸增大。

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