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電子顯微鏡：電子顯微鏡(Electron microscopy)，一般簡稱為 EM，
依成像的過程和構造的複雜性，可分為掃描式和穿透式電子顯微鏡等二大類。
利用電子顯微鏡觀 察之標本實必需經(jīng)特殊步驟處理后，方可觀察。另外，
還有掃描式原子探測顯微鏡，目前應用于觀察 原子或分子的形狀。
由于這些設備昂貴，皆屬于國 家貴重儀器，且技術性高，需有專人處理。

1. 穿透式電子顯微鏡(TEM)： 以電子槍（electron gun）發(fā)射之電子束
（electron beam）為光源，由于該波長極短，可以直接穿透 0.2 μm 的
標本，使影像在 photographic plate 上呈現(xiàn) 2-D 的結構。
2. 掃描式電子顯微鏡(SEM)： 以電子槍（electron gun）發(fā)射之一次電子束
（稱 primary electron beam）為光源，該波長極短，再照 射在樣品標本
表面（通常外表鍍金）后，會激發(fā)二次電子束（secondary electron beam）
反射，使影像為電子接收器接收，經(jīng)一連串影像放大后，會在螢幕上呈
現(xiàn) 3-D 的物體外表影像結構。
圖4-6. 穿透式（左欄）及掃描式（右欄）電子顯微鏡及所觀察之影像

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