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正文:
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超大規(guī)模集成電路的測量設備包括絕對和相對測量設備。絕對測量設
備包括美國國家標準局的光度計和激光干涉儀、美國國家標準局的掃描電
鏡和激光干涉儀、帶有光度計的尼康(Nikon)掩膜泓試設備和線性編碼器,
它們都與基本的測試標準相結(jié)合。相對測量設備用相對標準來校準,然后
再將樣品與這個棍對標準進行比較。相對測量設備包括電視系統(tǒng)、十字叉
絲目鏡、像切
顯微鏡和光度計等。但不管標準制定得如何細微,不管測量
設備的分辨率如何高,泓量誤差仍然始終是一個主要問題。測量誤差的主
要來源是。
1. 不同的操作者對圖形邊緣位置的判別和聚焦好壞的判別是不同的
,
2. 在參數(shù)測量培訓中的不適當培訓所造成的影響I
3. 關(guān)予測量技術(shù)的先入為主的錯誤概念I(lǐng)
4. 泓量系統(tǒng)中的圖形套不準,
5. 振動;
6. 光一光或電一光系統(tǒng)中能量強度、聚焦元件位置的變動。
7.電氣方面的變動,
8. 測量系統(tǒng)相對于所用標準的非線性,
9. 由一個測量設備轉(zhuǎn)移到另一個測量設備時,測量結(jié)果的互換性較
差。
在測量過程中,我們可能會遇到各種測量現(xiàn)象,例如鄰近效應現(xiàn)象,
確定同一個邊緣位置卻存在不同的光學閾,或者根本就不清楚什么是確定
邊緣位置的光學閾等等。這些現(xiàn)象的出現(xiàn)使我們認識到,為了進行線寬校
準,應該在整個被測區(qū)域內(nèi),使用許多寬度來分別測量線寬和線間距
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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