點(diǎn)擊查看產(chǎn)品參數(shù)和報(bào)價(jià)--丨--

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正文:
不管那一種量測(cè)方法,其檢測(cè)原理大致相同,利用光照射到待測(cè)物表面,所得到資訊以感測(cè)器或電荷耦合器來(lái)
擷取光反射或散射后的情形,對(duì)表面粗糙度要求高的待測(cè)物來(lái)說(shuō),光學(xué)量測(cè)的確是目前檢測(cè)系統(tǒng)的趨勢(shì)。
為了解決此問(wèn)題,本研究發(fā)展一套低價(jià)位與高精度之低溫多晶矽膜表面粗糙度光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng),
藉由檢測(cè)光源照射準(zhǔn)分子激光能量退火后之試片,以及根據(jù)所量測(cè)之光強(qiáng),可以于準(zhǔn)分子激光退火矽膜制程后,
快速得到低溫多晶矽膜之表面粗糙度值。根據(jù)蒐集文獻(xiàn),使用光散射方法量測(cè)物質(zhì)表面粗糙度值已經(jīng)有諸多
成功案例,主要的原因?yàn)楣馍⑸浞椒ň哂泻?jiǎn)單與良好可靠度。
發(fā)展出一套不同厚度之低溫多晶矽膜表面粗糙度光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng),本系統(tǒng)的開(kāi)發(fā)成本低廉,可運(yùn)用于半導(dǎo)體薄膜材料,
制程線上即時(shí)解析表面型貌。
出自http://www.bjsgyq.com/
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