標(biāo)題：晶片截面分析用金相顯微鏡-檢測(cè)光學(xué)儀器
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2014-8-21 17:49:08
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正文:
晶片截面分析用金相顯微鏡-檢測(cè)光學(xué)儀器
采用紅外光導(dǎo)攝象管和電子掃描，或者采用一個(gè)單元件檢測(cè)
器和機(jī)械掃描就可以構(gòu)成更完善的系統(tǒng).采用機(jī)械掃描能提供更
大的附加自由度，
因?yàn)槟軌蜻x擇在所希望的任何波長(zhǎng)范圍內(nèi)都具
有最佳性能的透鏡或者鏡子和檢測(cè)器.例如，較長(zhǎng)的波長(zhǎng)有
時(shí)在勾畫(huà)雜質(zhì)濃度變化方面是有幫助的，這是因?yàn)樽杂奢d流子的
吸收是隨著波長(zhǎng)的增加而提高.由于反射率和透射率都是載流子
濃度的函數(shù)，因此在檢測(cè)摻雜的變化時(shí)，
當(dāng)有可能使用時(shí)，采用反射光要簡(jiǎn)便得多，因?yàn)榫趁鏌o(wú)需拋光.
不透明半導(dǎo)體的薄膜可以在不使用紅外線的情況下進(jìn)行觀察，
尤其是藍(lán)寶石上的硅，根據(jù)它的特殊的性質(zhì)(薄、背襯透明)可直
接地進(jìn)行研究
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應(yīng)商
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