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正文:
腐蝕坑略
粗略地確定晶面.但它最有用的地方是可以相當(dāng)容易地確定薄的
晶片平面內(nèi)的晶向(這件事利用其它辦法是不容易解決的).腐蝕
坑技術(shù)的應(yīng)用,關(guān)鍵在于要有選擇性很強(qiáng)的腐蝕劑,它能擇優(yōu)地顯
露某個(gè)方向.對(duì)于金剛石和閃鋅礦結(jié)構(gòu)型的晶體,專門用于
面的腐蝕劑是易于得到的并已被廣泛應(yīng)用.采用這類腐蝕劑時(shí),
如果晶體表面原來就接近于面,應(yīng)腐蝕出在表面有三條邊的
小的倒置的三棱錐(正四面體)形的腐蝕坑;對(duì)于面,則產(chǎn)生
四邊形的棱錐;則形成金剛鉆形的腐蝕坑.
中示出了這些表面腐蝕圖形以及它們的晶向方位和相對(duì)尺度∞1.
適用于位錯(cuò)腐蝕坑研究的腐蝕劑也能用于定向工作,因?yàn)楂@得顯
示得很好的腐蝕坑(不管它的來源如何)是首要條件.許多特定的
腐蝕劑配方都列表在第2章中,以供讀者參考,也可參考專門用于
光學(xué)定向的腐蝕劑.除了常用的含水的腐蝕劑外,很多熔融
金屬也能產(chǎn)生清晰完整的腐蝕坑.對(duì)于半導(dǎo)體器件,若將其接觸材料
去除,?砂l(fā)現(xiàn)足夠多的微小合金點(diǎn),并可由此定出原始晶片的取
向.緩慢的蒸發(fā)(熱腐蝕)和各種高溫氣相反應(yīng)也能給出對(duì)定向
看到.否則就需要進(jìn)行腐蝕.但即使經(jīng)過腐蝕
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