標(biāo)題：光學(xué)顯微鏡的放大倍數(shù)的上限約為1200倍
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-7-22 23:29:50
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正文:
光學(xué)顯微鏡的放大倍數(shù)的上限約為1200倍
電子顯微鏡的一般介紹
光學(xué)顯微鏡的放大倍數(shù)的上限約為1200倍，在這樣大的放：廷
倍數(shù)下，景深非常�。捎谶@二個(gè)限制，再加上大多數(shù)微電路中，
擴(kuò)散和金屬化區(qū)域等等之間的距離可以與光學(xué)顯微鏡所用的光2芝
波長(zhǎng)相比擬這一事實(shí)，就導(dǎo)致了電子顯微鏡的日益普及．這些儀
器是用被幾十千伏的電壓加速了的電子束產(chǎn)生圖象和分辨更小轡，
體的．電子的波長(zhǎng)比光波波長(zhǎng)短得多(分辨力增加的原因)，它近
似地由下式給出
式中，V是電子的加速電壓．電子顯微鏡有兩種基本的類(lèi)型：一種
是透射電子顯微鏡(TEM)，它類(lèi)似于光學(xué)顯微鏡；另一種是掃描
電子顯微鏡(SEM)，它可以對(duì)樣品表面進(jìn)行掃描．透射電子顯微鏡
可以有很高的分辨率(3—5埃左右)，而掃描電子顯微鏡的分辨率
只有100N200埃．可是，透射電子顯微鏡只能使用薄得足以使電
子束能明顯穿透過(guò)的試樣．所允許的實(shí)際厚度與材料及所用的加
速電壓有關(guān)，但一般小于2000埃．因此，微電子學(xué)中所用的大多數(shù)
薄膜，即使它們不是附在較厚的基片上，對(duì)用透射電子顯微鏡觀察
而言也是太厚了．為此，塊狀的材料或較厚的薄膜必須減薄，或者，
假如只是對(duì)表面結(jié)構(gòu)有興趣，則可以用足夠薄的膜來(lái)制作復(fù)型．
掃描電子顯微鏡是根據(jù)一些不同的現(xiàn)象來(lái)構(gòu)成襯度的，所有
的測(cè)量都能在一個(gè)表面上進(jìn)行．對(duì)于基本的材料研究，諸如尋找
沉淀物以及研究晶粒結(jié)構(gòu)和位錯(cuò)，透射電子顯微鏡是最適合的．對(duì)
于器件工藝的控制和失效分析，則掃描電子顯微鏡更為有用，它可
用作為光學(xué)顯微鏡的擴(kuò)展，或用來(lái)檢測(cè)任何其它方法都不易辨別
的缺陷
掃描電子顯微鏡的應(yīng)用 掃描電子顯微鏡的最大應(yīng)用在于可
用高的放大倍數(shù)和很大的景深來(lái)檢測(cè)結(jié)構(gòu)和器件．
其中包括一張從硅襯底
上生長(zhǎng)出來(lái)的某些硅晶須的照片，它是用任何其它辦法都無(wú)法得
到的．對(duì)氧化物臺(tái)階上的集成電路金屬覆蓋物已作了廣泛的研
究
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北京地區(qū)金相顯微鏡專(zhuān)業(yè)的供應(yīng)商
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