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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2011-10-16 12:10:48
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正文:
封裝廠會(huì)用X-ray顯微鏡檢測(cè)產(chǎn)品生產(chǎn)的良率,而在故障分析上,也會(huì)運(yùn)用X-ray顯微鏡來(lái)觀察成品的封裝接線情形,以了解為何產(chǎn)品在CP沒(méi)問(wèn)題,但在封裝后的FT(final test)、可靠度測(cè)試甚至在系統(tǒng)端故障就出現(xiàn)了。
X光顯微鏡原理
X射線的波長(zhǎng)介于0.001到10nm間,只要使高速電子瞬間減速即可達(dá)成,損失的電子動(dòng)能就以X光的形式發(fā)出。由于X光短波長(zhǎng)的特性,使得它可以穿透物體原子的晶格,看起來(lái)就像透明一樣,而原子序越高,外層的電子多,與X光作用的機(jī)會(huì)就越大,因此X光穿透的機(jī)會(huì)較少,看起來(lái)就是較暗的,所以藉由照片的灰階對(duì)比與明暗表現(xiàn),即可探知物體的內(nèi)部構(gòu)造,這種非破壞性的觀察方式相較于它種顯微鏡是一大優(yōu)勢(shì)
X光顯微鏡的放大倍率可用圖,其放大倍率為a+b/a,傳統(tǒng)X光投影的解析度只有到120um,為了要使解析度僅可能的縮小,那麼試片就必須儘量接近發(fā)光源,儘管如此,至目前為止,由于系統(tǒng)上的限制,X光的解析度也僅能到5um而已[3-57],但對(duì)于封裝接線的觀察已綽綽有馀,如果要觀察晶片內(nèi)的製程結(jié)構(gòu),則是無(wú)法勝任的。
X光顯微鏡放大倍率的原理示意圖
X光顯微鏡的觀察
傳統(tǒng)上,X光顯微鏡只是單純的用于觀察封裝的2D俯視圖,以觀察接線是否有脫離或橋接的情形(圖3.7.2~3.7.4)[3-58],但隨著封裝技術(shù)越來(lái)越先進(jìn),flip-chip或者BGA的構(gòu)造使得這樣的觀察法已不符需求,因此近幾年來(lái)已開(kāi)發(fā)出3D的觀察法,下面就介紹兩種3D觀察法的原理。
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