標題：磨削和拋光加工-獲得高質(zhì)量的表面面形和紋理
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2016-7-2 23:04:13
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正文:
磨削和拋光加工-獲得高質(zhì)量的表面面形和紋理
而非球面表面隨著表面位置的不同其曲率半徑也不同，需要很
小的磨頭進行磨削和拋光。這些磨頭的質(zhì)量容易退化而使加工過程
不穩(wěn)定，同時需要精密的機床控制和復(fù)雜的校正程序，即使如此，
隨機產(chǎn)生疵病的可能性依然非常大。另外，能夠在500nm范圍內(nèi)達
用幾個修正循環(huán)，光學(xué)元件表面的波紋不可能完全避免，而必須設(shè)
置其公差值。
表面紋理的質(zhì)量
小接觸面積磨頭在加工過程中有確定的工作路徑，只能在很小
的空間內(nèi)隨機運動，從而導(dǎo)致表面紋理質(zhì)量的下降。為了獲得和球
面一樣的拋光質(zhì)量，需要更多的技術(shù)改進，例如，拋光時采用更小
尺寸的拋光頭，從10微米尺寸降到3微米尺寸，采用更小的拋光壓
力，從而延長拋光時間。因此，相對于拋光相同質(zhì)量的球面，拋光
非球面需要更長的時間。最近，在拋光技術(shù)方面有了新進展，例如
磁流變拋光技術(shù)(合適的拋光液)可以用來拋光各式各樣的光學(xué)元件
表面，同時可以獲得高質(zhì)量的表面面形和紋理。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/8594.html
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