標(biāo)題：干刻蝕技術(shù)改善玻璃表面清潔度分析顯微鏡
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2018-9-30 0:41:27
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正文:
干刻蝕技術(shù)改善玻璃表面清潔度分析顯微鏡
濕法腐蝕和干法刻蝕的關(guān)系
早期的千法刻蝕技術(shù)不夠穩(wěn)定，而且刻蝕均勻性差，重復(fù)性也差，所
以濕法腐蝕得到了廣范的應(yīng)用。但是近年來濕法腐蝕的同有的缺點(diǎn)越來越
突出，再加上干刻蝕技術(shù)的不斷提高和完善，使干法刻蝕技術(shù)越來越受
到人們的青睞。生產(chǎn)中濕法腐蝕的主要問題是腐蝕液對(duì)凈化室區(qū)域的腐蝕
和對(duì)人類健康的影響。毒氣的處理、廢液的排放、腐蝕用的丁夾具及設(shè)備
一化學(xué)試劑等都提高了濕法腐蝕的成本。同時(shí)還要受到攻府安全部門和環(huán)
境污染保護(hù)部門的干涉。根據(jù)這些原因，使人們的注意力逐漸轉(zhuǎn)向干法刻
蝕技術(shù)。等離予刻蝕技術(shù)不僅工藝簡(jiǎn)單，而且刻蝕分辨率高，無鉆蝕現(xiàn)象
，對(duì)生產(chǎn)環(huán)境的影響也較小。另外，干法刻蝕還可以用來作為掩膜版玻璃
的預(yù)處理，提高和改善玻璃表面的清潔度，增加涂敷層與玻璃的結(jié)合力．
等離子體刻蝕設(shè)備的改進(jìn)和技術(shù)的改善提高了刻蝕的均勻性，特別在
正性抗蝕劑工藝中對(duì)分辨率的提高更為明顯。干法等離子體刻蝕的主要優(yōu)
點(diǎn)包括；1．刻蝕后去膠方便，2．可省略后烘工藝，3．分辨率增加，邊緣
陡直；4．均勻性在-I-l～2％之間；5．提高了器件的電氣均勻性(閾值電
壓)，6．刻蝕和去膠可同時(shí)進(jìn)行，7．與濕法腐蝕比較，有利于生態(tài)環(huán)境保
護(hù)和生產(chǎn)安全。
千法刻蝕最主要的優(yōu)點(diǎn)是提高了刻蝕分辨率。對(duì)小予1“m的線條，用
濕法刻蝕方法極其困難，而對(duì)干法刻蝕來說卻極為方便。過去有許多技術(shù)
問題限制于千法刻蝕技術(shù)的應(yīng)用，然而近年來經(jīng)過人們的不斷研究，已經(jīng)
克服了干刻技術(shù)靜缺點(diǎn)，充分顯示了干法刻蝕技術(shù)的優(yōu)越性。與濕法刻蝕
比較；干法刻蝕相對(duì)來說比較安全。當(dāng)然，于溶刻蝕過程中也會(huì)排出一些
有害氣體
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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