標(biāo)題：金相顯微鏡觀察試片于成形的每個(gè)階段的晶粒尺寸的變化
信息分類(lèi):站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2013-1-9 19:47:22
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正文:
金相顯微鏡觀察試片于成形的每個(gè)階段的晶粒尺寸的變化
腐蝕、拍照與計(jì)算晶粒尺寸
調(diào)配的腐蝕液加以腐蝕，腐蝕后的試片以清水沖洗后再放入充滿(mǎn)蒸餾水的超音波洗滌器中清洗，
在金相照片上計(jì)算晶粒大小的方法是使用 ASTM E112 標(biāo)準(zhǔn)
規(guī)范，以截距法計(jì)算晶粒平均直徑，其方法是利用 CCD 拍攝出來(lái)的數(shù)據(jù)影像，
用軟體校正后的倍率，上面畫(huà)若干條水平、垂直或不規(guī)則的直線(xiàn)，
計(jì)算測(cè)量長(zhǎng)度內(nèi)通過(guò)多少個(gè)晶粒，再代入下列的計(jì)算式即可得到晶粒大小
L = （測(cè)量總長(zhǎng)度／通過(guò)之晶粒數(shù)）×（1／倍率）
試片于成形的每個(gè)階段，其不論在厚度、應(yīng)變速率、空孔與晶粒尺寸上都有不同的變化，
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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北京地區(qū)金相顯微鏡專(zhuān)業(yè)的供應(yīng)商
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