標題：TEM材料顯微鏡-分辨率約在10nm,最佳可達2-3nm
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2013-1-18 23:34:59
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正文:
TEM材料顯微鏡-分辨率約在10nm，最佳可達2-3nm
常用的TEM的電子加速電壓為50～100keV，分辨率約在10nm，最佳可達2-3nm。
但由于試片制作不易與缺乏應用的動機，因此鮮少為科學研究者使用
Heidenreich成功制備鋁及鋁合金薄膜之穿透式電子顯微鏡試片，觀察微結構之像對比并成功
以電子繞射原理加以解釋，使TEM在材料科學研究上逐漸顯出其重要性。并且加上試片研磨技術的提升；
TEM解析度的提高；晶體缺陷的電子繞射成像對比理論的發(fā)展；
試片在電子顯微鏡中之傾斜、旋轉等裝置的進步；
電磁透鏡聚焦能力的提升，使TEM在科學的研究領域中才被廣泛的使用
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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