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電子光學(xué)儀器對(duì)材料科學(xué)領(lǐng)域的沖擊在近些年是如此巨大,以至于光學(xué)顯
微方法在很多年輕的科研工作者眼里已成了日漸衰微的老古董,在先進(jìn)的研究
工作中越來越少用到,這樣的后果是很不幸的,前面已經(jīng)提到過,在檢測材料時(shí)
應(yīng)當(dāng)在很寬范圍的放大倍數(shù)下進(jìn)行的這個(gè)有益習(xí)慣卻越來越不被人們所遵循。
該類儀器分辨率在5-10nm之間,最好的可達(dá)到1nm左右。它的非同尋
常的焦深來源于這個(gè)事實(shí),即使用了一個(gè)非常小的數(shù)字化光闌,但這個(gè)特性對(duì)
分辨率沒什么壞的影響,此時(shí)的分辨率并不像在光學(xué)顯微鏡上受衍射的影響,
而是受各種像差的彩響。掃描電子顯微鏡可以進(jìn)行成分分析
允許“原子序數(shù)襯度”,這樣不同原子序數(shù)的元素在拋光后的表面成像
呈現(xiàn)不同程度的亮度。
另一種新式常用的顯微術(shù)種類被稱為“取向成像顯微術(shù)”(Adams et al,
1993):由背散射電子產(chǎn)生的某個(gè)晶粒的圖像被電腦程序自動(dòng)地破解,然后被
檢側(cè)的晶粒自動(dòng)發(fā)生改變,最后利用這種方法確定下來的取向來產(chǎn)生多晶像,
這個(gè)多晶具有以不同顏色或不同厚度作為標(biāo)記的晶界來代表舟個(gè)晶界取向差的
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北京顯微鏡百科
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