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正文:
利用雙光束干涉顯微鏡測量不透明覆層厚度
測量不透明覆層厚度時(shí)必須采用破壞的方法,為此在測量之
前要進(jìn)行試樣的制備。
試樣制備是將待測件被測處的覆層去掉一部分,露出基體和
形成臺(tái)階.對于某些覆層可選用適當(dāng)?shù)耐四ひ和说粢徊糠,而?/div>
退掉的覆層可用一圈膠帶粘貼上而加以保護(hù)。
為了得到多光束干涉條紋,一般應(yīng)滿足下列條件:
(1)干涉面應(yīng)噴涂一層高反射系數(shù)的薄膜,而且膜的吸收
系數(shù)很。
(2)薄膜噴涂層如銀或鋁的厚度應(yīng)十分均勻;
(3)采用單色光源;
(4)兩反射面間的距離越小越好,最好只是單色光源波長
的幾倍;
(5)入射光波應(yīng)為一平行光束;
(6)入射光束應(yīng)盡可能垂直于試樣表面.
線性偏振光以一定角度照射有覆層的零件表面,在光通過覆
層表面以及覆層與基體界面會(huì)產(chǎn)生反射,并將產(chǎn)生橢圓偏振光。
根據(jù)偏振光的種類和偏振程度,通過計(jì)算可確定覆層厚度。
偏振光法測量覆層厚度通常是在由起偏器、補(bǔ)償器、檢偏器
等偏振元件制成的偏振光顯微鏡上進(jìn)行。偏振光顯微鏡是利用尼
科爾棱鏡來產(chǎn)生偏振光,稱之為起偏振片或起偏器。在起偏器的
后面插入一個(gè)同樣的起偏振片,它用來檢定起偏器所形成的偏振
光,稱之為檢偏器或分析器。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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