標(biāo)題：熱納米壓印光刻是一種典型的納米壓印光刻工藝
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2016-8-26 12:30:35
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正文:
熱納米壓印光刻是一種典型的納米壓印光刻工藝
納米封裝——納米技術(shù)與電子封裝過程的非線性動(dòng)力學(xué)特性。
因?yàn)椴y層在各類納米技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用潛力，模擬和理解波痕層的
形成過程正日益受到人們的關(guān)注。
納米壓印光刻工藝模擬
納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）是最有吸
引力和最有前途的納米制造工藝之一。該工藝能夠利用各種材料提
供低成本、高產(chǎn)額、小至6nm尺寸的圖案。
熱納米壓印光刻是一種典型的納米壓印光刻工藝。熱壓印工藝
是利用熱塑性聚合物實(shí)現(xiàn)的。熱壓印工藝的幾個(gè)步驟，先對一塊聚
合物和一個(gè)納米制造的標(biāo)準(zhǔn)模具（根據(jù)特定的規(guī)格要求制造的、刻
有特定圖案的精密模具）在高于該聚合物玻璃轉(zhuǎn)化溫度( Tg)的溫
度下進(jìn)行預(yù)熱；然后將模具壓人聚合物中，這樣就在聚合物上形成
了模具的陰文；當(dāng)模具受壓并保持此狀態(tài)時(shí)，將聚合物冷卻至以下
、并使之硬化，從而在聚合物上形成了模具圖案的輪廓；最后撤掉
模具上的壓印力并剝離模具。
與納米壓印光刻相關(guān)的典型問題有聚合物膜壓印后的機(jī)械應(yīng)力
、大變形和殘余厚度。聚合物薄膜壓印后的橫截面輪廓是壓印壓力
、聚合物原始厚度、納米空洞尺寸或長寬比等工藝參數(shù)的函數(shù)，對
其進(jìn)行數(shù)值模擬能夠提供壓印工藝的有價(jià)值信息。目前，主要有兩
種方法來模擬工藝。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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